半导体晶圆制造过程中,超纯水的纯度要求极-致严苛,水中痕量有机碳残留会吸附在晶圆表面,影响光刻、蚀刻等关键工艺,直接导致芯片良率下降。我们的TOC分析仪(电导率法),以ppb级高灵敏度检测能力,专为半导体超纯水监测打造,精准捕捉痕量有机碳,为半导体精密制造保驾护航。

极-致灵敏度,捕捉痕量隐患。半导体超纯水对TOC含量要求极-高,通常需控制在1ppb以下。我们的分析仪检测范围覆盖0.001mg/L~1.600mg/L(1ppb~1600ppb),示值误差仅±5%,重复性RSD≤2%,能精准捕捉超纯水中的痕量有机碳,远超行业监测标准。采用双波长高效氧化技术,185nm+254nm紫外灯产生强氧化性自由基,确保有机物彻-底氧化,结合差值电导率检测,彻-底消除无机碳干扰,每一组数据都精准可靠。

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